4-オクソテンポ、テンポネ

This compound appears as a bright orange crystalline solid with a melting range of 33–38°C.The estimated boiling point is 299.88°C,and the approximate density is 1.0710.The vapor pressure at 25°C is 2.254 Pa,and the refractive index is around 1.4640.Storage at 2–8°C is advised.It is soluble in DMF,DMSO,ethanol,and PBS(pH 7.2)at concentrations up to 30 mg/ml and is partly soluble in water,acetone,and diethyl ether.The stable nitroxide radical requires storage in a sealed,moisture-proof,light-proof container away from strong oxidants,reducers,and excessive heat(>100 度)。4 位のケトン基により、全体の構造安定性が向上します。

4-オキソ-TEMPO (CAS No.2896-70-0) は、ピペリジン環の 4 位にカルボニル基を備えた TEMPO ラジカルのケトン官能化誘導体です。この修飾により、TEMPO と比較してその極性と酸化還元電位がわずかに変化し、水相触媒作用や極性環境でのスピンプローブとして特に役立ちます。

1.水-適合性酸化触媒
二相系における水溶性炭水化物の選択的酸化（例: グルコースからグルカル酸）を可能にします。極性が高いため、グリーンケミストリー用途の連続流通反応器での触媒の回収とリサイクル可能性が向上します。

2.動的核分極(DNP)剤
固体--角度回転法（MAS）NMR における NMR 感度を高めるために使用されます。これは、医薬品の多形体や膜タンパク質の構造を原子分解能で分析するための偏光剤として機能します。

3.ナノマテリアルの機能化
カーボン ナノチューブと酸化グラフェンのグラフト剤として機能します。ラジカルは sp² カーボン表面への共有結合を促進し、高強度ナノ複合材料のポリマー マトリックス中での分散を改善します。-。

4.フォトレジスト中のラジカルスカベンジャー
極端紫外線（EUV）フォトレジスト配合物に組み込まれて酸の拡散を制御し、確率的欠陥を軽減することで、次世代半導体製造の高解像度パターニングが可能になります。{0}}

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